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在現(xiàn)代科研和精密制造領(lǐng)域,我們常常需要對(duì)材料表面進(jìn)行其的清潔。普通的水洗、酒精擦洗甚至超聲波清洗,有時(shí)都無(wú)法滿(mǎn)足要求,特別是當(dāng)處理的對(duì)象是微小的芯片、精密的醫(yī)療...
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等離子處理機(jī)是一種利用等離子體(電離氣體)對(duì)材料表面進(jìn)行物理化學(xué)改性的技術(shù)設(shè)備,其核心原理是通過(guò)高頻電場(chǎng)或微波激發(fā)氣體形成等離子體,利用其中的高能粒子(如電子、離子、自由基)與材料表面發(fā)生反應(yīng),實(shí)現(xiàn)清潔、活化、改性或涂層沉積等功能。等離子體生成:通過(guò)高頻交流電場(chǎng)或微波激發(fā)氣體(如氬氣、氮?dú)狻⒀鯕狻嚎s空氣),使其電離形成由帶電粒子(電子、離子)和中性粒子(原子、分子、自由基)組成的等離子體。低溫等離子體(常壓或真空環(huán)境)是表面處理的主流,避免高溫?fù)p傷材料主體。物理濺射:高能粒...
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等離子清洗特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類(lèi)型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進(jìn)行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機(jī)對(duì)陶瓷基板上銀氧化層的清洗實(shí)例。


等離子清洗機(jī)可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機(jī)對(duì)PCB板和硅片的去膠實(shí)例。

改善粘合力-用于光學(xué)元件、生物醫(yī)學(xué)、封裝領(lǐng)域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強(qiáng)表面粘附性、浸潤(rùn)性、相容性;
圖為PLUTO-M對(duì)線(xiàn)路板、橡膠管和手機(jī)膜的表面改性實(shí)例。

等離子刻蝕是干法刻蝕中常見(jiàn)的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí),會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。

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